ASML y Zeiss investigan la tecnología Hyper-NA para superar la litografía ultravioleta extrema
Titular original en XatakaHigh-NA EUV todavía está llegando a las fábricas. ASML y Zeiss ya tienen un nombre para lo siguiente: Hyper-NA
El fabricante neerlandés y su socio óptico alemán buscan imprimir detalles más pequeños que los de las máquinas actuales. La iniciativa ocurre mientras las fábricas de semiconductores integran la generación High-NA EUV en sus procesos industriales.
- Qué significa
- ASML y Zeiss buscan superar la capacidad de las máquinas actuales mediante un estudio científico revisado por pares.
- Lo importante
- La tecnología podría estar lista en aproximadamente diez años y ASML no se ha comprometido a fabricar los equipos comercialmente.
